マイクロ/ナノの処理の写実的なプロセス---レーザ光線

August 3, 2020
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マイクロ ナノの処理の模造プロセスは2つの技術に主に分けられる:パターン移動および直接処理。技術をエッチングするレーザ光線にパターン移動のマルチステップ プロセスを避ける直接書く機能があり集中された高エネルギーレーザ光線の制御によって直接材料の三次元微細構造を作り出す。それにエッチングするミクロ以下のフィルムが正確さをあり、いろいろな材料のために適している処理する。

 

写真平版は写真平版のマスクでなされる基質の表面へパターンを移すことである。どのようなマイクロ装置が処理されるか問題は、マイクロ処理プロセス1つ以上の周期フィルムの沈殿、写真平版およびエッチングの3つのプロセス ステップの分割することができない。石版印刷はMEMSの製造工程の最前線にあり、グラフィック決断、上にあられた正確さおよび他の特性は直接それに続くプロセスの成功か失敗に影響を与える。

 

マイクロ ナノの製造技術はミリメートルの次元の部分の設計、処理、アセンブリ、統合および適用技術を、マイクロメートルおよびこれらの部品で構成されるナノメーター、また部品またはシステム示す。マイクロ ナノの製造技術はマイクロ センサー、マイクロ アクチュエーター、微細構造および機能マイクロ ナノ システムの製造業のための基本的な平均そして重要な基礎である。